img
Characterization of N Rich-Silicon Nitride Thin Films Deposited by PECVD
Yazarlar
Prof. Dr. İpek GÜLER
Çankaya Üniversitesi, Türkiye
Makale Türü Özgün Makale
Makale Alt Türü SSCI, AHCI, SCI, SCI-Exp dergilerinde yayımlanan tam makale
Dergi Adı The Electrochemical Society
Dergi ISSN 2162-8769
Dergi Tarandığı Indeksler SCI-Expanded
Dergi Grubu Q3
Makale Dili Türkçe
Basım Tarihi 04-2023
Cilt No 12
Doi Numarası 10.1149/2162-8777/acc971
Makale Linki http://dx.doi.org/10.1149/2162-8777/acc971
Atıf Sayıları
SSCI/AHCI/SCI/ESCI 0
Scopus Atıf Sayısı 0
Diğer Atıflar 0
Characterization of N Rich-Silicon Nitride Thin Films Deposited by PECVD